在制氫系統(tǒng)中，對于氫純化設(shè)備出口氫氣露點的測量是非常重要的一項監(jiān)控工藝。那么氫純化設(shè)備出口為什么需要測露點呢？氫純化設(shè)備氫氣露點，是指在一定壓力下，所需降低氫氣溫度至飽和時形成露水的溫度。通常要求制氫設(shè)備出口使用氫氣微量水分露點分析儀檢測純化后氫氣的露點水分含量，并將露點溫度值控制在負(fù)40°C以下，以確保氫氣中的水汽含量符合標(biāo)準(zhǔn)。這是因為當(dāng)水汽含量過高時，會在氫氣使用過程中引發(fā)一系列問題。 氫氣因其高能、環(huán)保等特性，被廣泛應(yīng)用于能源、航空航天、電子工業(yè)等領(lǐng)域。然而，氫氣中的水分如果未被充分去除，會對設(shè)備的運行和產(chǎn)品的質(zhì)量帶來極大的影響。尤其是在高精度的電子工業(yè)中，水分可能會導(dǎo)致半導(dǎo)體芯片的短路和失效。因此，對氫純化設(shè)備的出口露點進(jìn)行測量，確保其符合使用要求，是至關(guān)重要的。
 
氫氣純化設(shè)備出口測水分露點的主要原因如下：
1、水汽會引發(fā)金屬腐蝕
氫氣中的水汽在高溫環(huán)境下會與金屬表面發(fā)生反應(yīng)，形成氫化物，進(jìn)而引發(fā)金屬腐蝕的問題。這樣會降低設(shè)備的壽命，并可能導(dǎo)致設(shè)備的功能失效。
2、水汽會導(dǎo)致液態(tài)氫泄漏
氫氣中的水汽在低溫環(huán)境下會凝結(jié)成液態(tài)水，并在氫氣傳輸過程中形成水滴。這些水滴會堵塞管道或附著在設(shè)備內(nèi)部的表面上，從而引發(fā)氫氣的泄漏問題。液態(tài)氫泄漏不僅會造成資源的浪費，還可能引發(fā)安全隱患。
3、有助于保證制氫設(shè)備的正常運行
在氫氣的生產(chǎn)、儲存和運輸過程中，由于環(huán)境條件的變化，氫氣中水分的含量可能會發(fā)生變化。如果無法及時準(zhǔn)確地監(jiān)測到這種變化，可能會導(dǎo)致設(shè)備的性能下降，甚至引發(fā)安全事故。通過定期測量氫氣的露點，可以及時發(fā)現(xiàn)并處理這些問題，保證設(shè)備的穩(wěn)定運行。
4、符合氫氣產(chǎn)品國家標(biāo)準(zhǔn)的要求
對于氫氣產(chǎn)品的質(zhì)量，國家標(biāo)準(zhǔn)《GB/T 3634.1-2006 氫氣 第1部分 工業(yè)氫》和《GB/T 3634.2-2011 氫氣 第2部分：純氫、高純氫和超純氫》中有著嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)要求。其中，就包括了對氫氣中水分含量露點溫度值的限制。只有嚴(yán)格控制氫氣的露點，才能保證生產(chǎn)的氫氣符合國際標(biāo)準(zhǔn)，滿足客戶的需求。 以贏潤集團(tuán)研發(fā)生產(chǎn)的ERUN-PG7190便攜式氣體水分露點分析儀和ERUN-PG919T氣體微量水分露點在線分析儀為例，分別適用于隨身攜帶方便快速移動測量和固定安裝連續(xù)實時在線監(jiān)測氣體的微量水分露點溫度值的工況場所，支持顯示露點溫度Td、溫度T、相對濕度RH、水分體積濃度ppmv、水分質(zhì)量濃度g/m3等。

工業(yè)級氫氣露點微量水分檢測儀技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品型號：ERUN-QZ919T（在線式）、ERUN-PG7190（便攜式）
露點范圍：-80℃～+20℃（可選量程：-100～+20℃）
溫度范圍：-40℃～+100℃
濕度范圍：0~100%RH
精度誤差：±2℃Td、±0.1℃、±0.8RH%
顯示項目：Td、T、RH、ppmv、g/m3
數(shù)據(jù)傳輸：4-20 mA、0-1V、0-5V、0-10V（在線式）、USB（便攜式） 以上就是關(guān)于氫純化設(shè)備出口為什么需要測露點的相關(guān)介紹，制氫設(shè)備出口氫氣露點的測量是確保制氫過程的關(guān)鍵步驟。水汽含量過高會引發(fā)金屬腐蝕和液態(tài)氫泄漏等問題，因此及時進(jìn)行氫氣露點測量十分重要。通過氫氣微量水分露點分析儀測量水汽的露點溫度，制氫設(shè)備可以及時發(fā)現(xiàn)水汽含量異常，并采取相應(yīng)措施，以確保設(shè)備的正常運行和氫氣的質(zhì)量。只有保持出口氫氣的水汽含量符合標(biāo)準(zhǔn)，才能確保制氫過程的安全高效進(jìn)行。